The 8th International Conference “ALD FOR INDUSTRY” will again bridge the gap between fundamental science, industrialization and commercialization of this technology. Atomic layer deposition (ALD) is a process for depositing a variety of thin film Continue Reading
Plasma Technology has a large potential to support catalytic processes in two respects. Firstly, plasmas enable chemical processes with high activation energies and can be used for the conversion of gases or the modification of Continue Reading
Inhalte ♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Deadline für Projektskizzen: 19.06.2025 | Weitere Informationen folgen in Kürze.
Plasmatechnologien für die Oberflächenmodifizierung und Schichtabscheidung sind industriell etabliert und viele Produkte der Halbleitertechnik, der Automobilindustrie, der Medizintechnik etc. sind ohne technologische Plasmaprozesse heutzutage nicht mehr vorstellbar. Zur Gewährleistung der Prozesssicherheit beim Einsatz der Plasmatechnik Continue Reading
Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V.
Gostritzer Straße 63
01217 Dresden, GERMANY
