Erfolgreicher internationaler Workshop zu Photonic Integrated Circuits in Berlin – Dünnschichttechnologien als Schlüssel für industrielle PIC‑Architekturen

Berlin, Juni 2026 – Am 2. und 3. Juni 2026 fand am Fraunhofer‑Heinrich‑Hertz‑Institut (HHI) in Berlin der internationale Workshop „Photonic Integrated Circuits – Mapping Thin‑Film Processes to Industrial Architectures“ der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten (EFDS) statt. Die Veranstaltung brachte führende Expertinnen und Experten aus Industrie und Forschung entlang der gesamten Wertschöpfungskette der integrierten Photonik zusammen. Im Mittelpunkt standen Dünnschichttechnologien als zentrales verbindendes Element für die Entwicklung, Integration und Skalierung zukünftiger photonischer Systeme.

Das hochkarätige Programm deckte ein breites Themenfeld ab – von Materialien und Dünnschichtprozessen über Design und Integration bis hin zu industrieller Fertigung und Anwendungen in Telekommunikation, Datenzentren, Sensorik und Quantentechnologien. Dabei spannte sich der inhaltliche Bogen über die gesamte technologische Kette: von Dünnschicht‑Depositionsherausforderungen für SiN‑Wellenleiter bei IMS CHIPS und reaktiv gesputterten ScAlN‑ und BTO‑Schichten für elektrooptische Modulatoren am Fraunhofer FEP bis hin zu Co‑Packaged Optics zur Skalierung von AI‑Recheninfrastrukturen bei IBM sowie photonischen Plattformen für Quantentechnologien von QuiX und Linq Photonics.

Die Vorträge überzeugten durch eine hohe fachliche Qualität und aktuelle industrielle Relevanz. Besonders hervorzuheben sind die intensiven Frage‑ und Diskussionsrunden im Anschluss an die Präsentationen, die das große Interesse der Teilnehmenden unterstrichen und einen lebendigen Austausch zwischen Forschung und Anwendung ermöglichten. Ergänzt wurde das Programm durch Posterbeiträge, die zusätzliche Einblicke in laufende Forschungs- und Entwicklungsarbeiten boten.

Das Fraunhofer HHI bot als Gastgeber nicht nur eine moderne und offene Umgebung im Herzen Berlins, sondern eröffnete den Teilnehmenden mit einer exklusiven Laborführung am zweiten Veranstaltungstag spannende Einblicke in aktuelle Forschungsaktivitäten und technologische Infrastrukturen. Die lichtdurchfluteten Räumlichkeiten und das ansprechende Umfeld schufen ideale Voraussetzungen für intensives Networking und fachlichen Austausch.

Ein besonderer Dank gilt dem Fraunhofer HHI sowie dem gesamten Organisationsteam vor Ort für die hervorragende Unterstützung, die professionelle Durchführung und die herzliche Gastfreundschaft. Ebenso bedankt sich die EFDS beim Programmkomitee – Andreas Ehrhardt (Photonics BW e. V.), Matthias Hutter (Fraunhofer IZM), Silvia Schwyn‑Thöny (Evatec AG), Christian Schindler (Bühler Alzenau GmbH) sowie Andreas Salzinger (Photonics BW e. V.) – für die enge, konstruktive Zusammenarbeit, die maßgeblich zur Gestaltung eines ausgewogenen und qualitativ hochwertigen Programms beigetragen hat.

Neben den fachlichen Inhalten bot der Workshop zahlreiche Gelegenheiten zum persönlichen Austausch, unter anderem im Rahmen eines gemeinsamen Abendessens in ansprechender Atmosphäre. Die Veranstaltung zeichnete sich insgesamt durch eine hohe Interaktivität, starken Praxisbezug und exzellente Vernetzungsmöglichkeiten aus.

Mit der erfolgreichen Durchführung des Workshops wurde ein wichtiger Impuls für den weiteren Dialog innerhalb der internationalen PIC‑Community gesetzt. Die EFDS verfolgt auch künftig das Ziel, Plattformen für den interdisziplinären Austausch zu schaffen und die Zusammenarbeit zwischen Materialwissenschaft, Prozessentwicklung und industrieller Anwendung im Bereich der Dünnschichttechnologien nachhaltig zu stärken.